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離子遷移實(shí)驗裝置

簡(jiǎn)要描述:離子遷移實(shí)驗裝置 原理為印刷電路板上給予一固定的直流電壓 , 經(jīng)過(guò)長(cháng)時(shí)間的測試(1 ~1000 小時(shí))并觀(guān)察線(xiàn)路是否有瞬間短路的現象發(fā)生 , 并記錄電阻值變化狀況,故又叫做 CAF 試驗,絕緣阻力電阻試驗,或者是 OPEN/SHORT 試驗,我們將其統稱(chēng)為絕緣劣化試驗。

  • 更新時(shí)間:2024-05-14
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:841
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 產(chǎn)品型號:HVUα_2000V
品牌其他品牌產(chǎn)地進(jìn)口
加工定制

離子遷移實(shí)驗裝置

離子遷移實(shí)驗裝置是一種信賴(lài)性試驗設備,原理為印刷電路板上給予一固定的直流電壓( BIAS VOLTAGE ), , 經(jīng)過(guò)長(cháng)時(shí)間的測試(1 ~1000  小時(shí))并觀(guān)察線(xiàn)路是否有瞬間短路的現象發(fā)生( ION MIGRATION ), , 并記錄電阻值變化狀況,故又叫做 CAF  試驗,絕緣阻力電阻試驗,或者是 OPEN/SHORT 試驗,我們將其統稱(chēng)為絕緣劣化試驗。( ION MIGRATION TESTING )


在高溫高濕條件下,對電子零部件以及印刷電路板的絕緣部分測試電阻值,也能夠進(jìn)行高效率的絕緣可靠性評估。


適用規格 : JPCA- - ET01- - 2001

離子遷移實(shí)驗裝置

HVUα_2000V離子遷移試驗裝置-1.jpg

HVUα_2000V離子遷移試驗裝置-2.jpg

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